简述PECVD薄膜沉积的原理

薄膜沉积的机构包括那些步骤（）。 简述MOSFET与薄膜晶体管工作原理上的不同。 简述MOSFET与薄膜晶体管工作原理上的不同 制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置（） 制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置 简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。 简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜 （）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。 有许多种薄膜技术能够在基材表面覆盖薄膜材料层，其中最重要的两种方法是：物理气相沉积PVD和化学气相沉积CVD（） （）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。 薄膜沉积的机构，依发生的顺序，可以分为这几个步骤。其中不包括（）。 简述薄膜阀的作用。 简述薄膜蒸发的优点。 简述拉伸薄膜的特点性能 简述拉伸薄膜的性能特点 气开式薄膜调节阀的工作原理如何 何谓深海沉积？简述深海沉积物的来源、分类和分布。 简述障壁岛相的沉积特征。 简述油田沉积相与区域性沉积相研究的关系。 简述沉积岩的形成过程。