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换一换
抛光过程可能出现的严重缺陷是（）
A.水纹 B.砂孔 C.变形
答案
简述胶囊抛光过程中设备的调节。
答案
影响研磨抛光过程中的主要因素有哪些？
答案
抛光过程中必须进行（）以确保送检产品质量。
A.员工自检 B.班长首检 C.班长巡检 D.工序间互检
答案
打磨抛光过程中因没有及时冷却，使支架升温可引起
A.支架的折断 B.支架的变形 C.抛光后的支架粗糙 D.抛光后的支架高度光亮 E.抛光后的支架表面光泽度不好
答案
在浮法玻璃摊平0抛光过程中，使玻璃带摊开的力是（）。
答案
分子荧光过程是（ ）
答案
抛光产品检验“水纹”缺陷应从抛光纹路的（）去看。
A.横向 B.纵向 C.任意方向
答案
下列缺陷中的( )是设备金属部件在服役过程中可能会出现的缺陷。
A.疲劳裂纹 B.气孔 C.发纹 D.应力腐蚀裂纹
答案
抛光产品检验“砂纹”缺陷应从抛光纹路的（）去看。
A.横向 B.纵向 C.任意方向
答案
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B细胞免疫缺陷常出现的严重感染是
抛光可以去除车漆原有缺陷。
抛光可以去除车漆原有缺陷（）
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老视验光过程不包括（）
下列面漆膜局部缺陷中，无法用抛光法处理的是（）
下列漆膜缺陷中，适合用研磨剂作抛光的是（ ）
对于出现严重缺陷项目的药品经营企业（）
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软件缺陷属性包括缺陷标识、缺陷类型、缺陷严重程度、缺陷产生可能性、缺陷优先级、缺陷状态、缺陷起源、缺陷来源、缺陷原因（）
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