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简述化学气相沉积工艺过程的要点
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简述化学气相沉积工艺过程的要点
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简述化学气相沉积工艺过程的要点
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化学气相沉积(CVD)
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化学气相沉积(气→固)可以分为哪几种
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主观题
化学气相沉积(气→固)可以分为哪几种
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单选题
制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置()
A.8486.3021 B.8486.2029 C.8486.2021
答案
单选题
制造半导体器件薄膜化学气相沉积装置
A.8486.3021 B.8486.2029 C.8486.2021 D.8486.3029
答案
单选题
化学气相沉积的英文名称的缩写为()。
A.LVD B.PED C.CVD D.PVD
答案
判断题
化学气相沉积法和物理气相沉积法最主要的区别在于前者需要在真空环境下进行。
答案
单选题
化学气相沉积法和物理气相沉积法最主要的区别在于前者需要在真空环境下进行()
A.正确 B.错误
答案
主观题
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答案
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