集成电路工厂新建一个化学清洁间，建筑面积为90㎡，设置1个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洁间同一时间内清洗操作人员不应该超过（）人

某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为lOO㎡，设置1个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员不应该超过（）人 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为 100m²，设置 1 个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员不应该超过（）人 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100m2，设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员应该超过（）人 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100IT12，设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危性为甲类酌荔拣液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员应该超过（）人。 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100 ㎡，设置一个安全出口，清洗作业时大量使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员不应超过（）人。 集成电路工厂的化学清洗间（） 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100㎡，设置1个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员不应该超过（     ）人。 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100m2，设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员不应该超过(    )人。 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100m2,设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员应该不超过（）人 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100m2，设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员应该不超过（　　）人。 （2015真题）某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100m2,设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员应该不超过()人 某集成电路工厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100m2，设置1个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗问同一时间内清洗操作人员不应该超过（）人。 某集成电路厂新建一个化学清洗间，建筑面积为100㎡，设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为甲类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员应该不超过（）人 某集成电路厂新建一个化学清洗间，建筑面积为150㎡，设置一个安全出口，清洗作业使用火灾危险性为乙类的易燃液体，该清洗间同一时间内清洗操作人员应该不超过（　）人。 某二级耐火等级的单层集成电路工厂的化学清洗间（使用甲类物质），未设置自动灭火系统，其防火分区最大允许建筑面积为（ ）m2。 某集成电路工厂新建一××，设置1个出口。清选作业使用火灾××，同一时间内清洗人员不应超过（ ）。 如一个集成电路芯片包含20万个电子元件，则它属于集成电路（） 某化工厂新建一个樟脑提炼厂房，建筑面积为 150 ㎡，设置 1 个安全出口，按照规定，该 厂房同一时间内作业人员不应超过（ ）人。 第一个集成电路的发明者（） 单片机是在一个集成电路芯片中集成了()。