抛光砖
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抛光砖
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抛光砖的产品知识（）
A.抛光砖是80年代后期由建材王国日本、台湾引入我国的 B.抛光砖是80年代后期由建材王国意大利、西班牙引入我国的 C.抛光砖和玻化砖是同一产品的两种不同提法 D.抛光砖是根据抛光工序来命名的，玻化砖是产品在烧成过程中的某一物理、化学过程来命名的 E.玻化砖的基本定义——吸水率小于0.1%的抛光砖进一步定义为玻化砖 F.玻化砖的概念对消费者来讲比较新颖,提倡卖场尽量适用G．生产工艺：原料—球磨—成浆—喷雾干燥—压制成型—印花—烧成—抛光—分级—包装—入库
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玻化砖和抛光砖的区分（）
A.玻化砖没有防滑性 B.抛光砖是需要拋光和加防污层处理，基本不防滑 C.玻化砖的密度大 D.认为吸水率小于0.5%（很多都小于0.1%）的瓷质砖都可叫作玻化砖
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玻化砖和抛光砖的区分（）
A.玻化砖没有防滑性 B.抛光砖是需要拋光和加防污层处理，基本不防滑 C.玻化砖的密度大、孔隙率小、吸水率小、瓷化程度高等 D.认为吸水率小于0.5%（很多都小于0.1%）的瓷质砖都可叫作玻化砖
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抛光砖的尺寸偏差为每块抛光砖的平均尺寸相对于工作尺寸的允许偏差为（）mm。
A.±1.0 B.±1.5 C.±2.0 D.±2.5
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抛光砖常见的质量缺陷包括（）
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抛光砖光泽度不低于（）
A.40 B.50 C.55 D.60
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哪一款砖是我们平常所说的超白抛光砖（）
A.HPVB28000 B.PC28000 C.HPVT18001 D.PY18000
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抛光砖的边直度、直角度和表面平整度允许偏差为（）%。
A.±0.1 B.±0.2 C.±0.3 D.±0.5
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抛光砖的边直度、直角度和表面平整度允许偏差为（）%。
全抛釉、大理石、抛光砖铺贴时需预留2-3mm缝隙，通常2mm（）
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金合金全冠抛光所用抛光剂是金合金全冠抛光所用抛光剂是（）
汽车抛光（）面最容易抛光
抛光后应在抛光部位涂（）。
粗抛光的抛光纹路应（）
抛光在软质材料做成的抛光轮表面上涂以抛光研磨剂，以高速转动来抛光工件表面称为抛光。下列选项中不属于抛光材料的是（）
用抛光夹抛光，仅适用（）工件。
金属镜架表面抛光处理时，抛光轮与抛光蜡使用状况是（）
抛光轮直径越小，抛光效果越好。
金合金抛光所用抛光剂是（ ）
金合金抛光所用抛光剂是（）。
钛合金支架抛光时常用（）抛光膏。
抛光轮直径越小，抛光效果越好（）
金合金抛光所用抛光剂是
抛光机的操作步骤包括（）。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。
抛光轮转速越大，抛光效果越好。
抛光轮材料越硬，抛光效率越高。
镍铬合金全冠抛光所用抛光剂是（）
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