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配位滴定时,溶液中往往存在多种金属离子,避免干扰离子干扰的唯一方法是加入掩蔽剂
判断题
配位滴定时,溶液中往往存在多种金属离子,避免干扰离子干扰的唯一方法是加入掩蔽剂
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判断题
配位滴定时,溶液中往往存在多种金属离子,避免干扰离子干扰的唯一方法是加入掩蔽剂
答案
单选题
配位滴定方式中,适用于多种金属离子存在下,测出其中一种金属离子()
A.直接滴定 B.返滴定 C.间接滴定 D.置换滴定
答案
单选题
配位滴定只能测定高价的金属离子,不能滴定低价金属离子和非金属离子()
A.正确 B.错误
答案
判断题
配位滴定法测定金属离子含量时,应注意酸度、干扰离子的影响()
答案
多选题
配位滴定中消除干扰离子的方法有()
A.配位掩蔽法 B.沉淀掩蔽法 C.氧化还原掩蔽法 D.化学分离
答案
多选题
EDTA配位滴定法,消除其它金属离子干扰常用的方法有()。
A.加掩蔽剂 B.使形成沉淀 C.改变金属离子价态 D.萃取分离
答案
主观题
EDTA配位滴定法,消除其它金属离子干扰常用的方法有()
答案
多选题
在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()。
A.掩蔽法 B.预先分离法 C.改用其它滴定剂法 D.控制溶液酸度法
答案
多选题
在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()
A.掩蔽法 B.预先分离法 C.改用其他滴定剂法 D.控制溶液酸度法
答案
判断题
配位滴定只能测定高价的金属离子,不能测定低价金属离子和非金属离子。()
答案
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配位滴定法中消除干扰离子的方法有()。
在配位滴定中,要准确滴定M离子而N离子不干扰须满足lgKMY-lgKNY≥5()
在配位滴定中,消除干扰离子常用的掩蔽法有()
在配位滴定中,要准确滴定M离子而N离子不干扰须满足lgK(MY)-lgK(NY)≥5()
配位滴定时,金属离子M和N的浓度相近,通过控制溶液酸度实现连续测定M和N的条件是()
配位滴定时,金属离子M和N的浓度相近,通过控制溶液酸度实现连续测定M和N的条件是()。
在一定酸度下,用EDTA滴定金属离子M。若溶液中存在干扰离子N时,则影响EDTA配位的总副反应系数大小的因素是()
在配位滴定中,要准确滴定偏M离子而N离子不干扰须满足lgK(MY)-1gK(NY)≥5()
配位滴定分析中测定单一金属离子的条件是()
配位滴定中,指示剂与金属离子形成的配合物
配位滴定分析中测定单一金属离子的条件是()
用EDTA进行配位滴定时,被滴定的金属离子(M)浓度增大,lgK′MY也增大,所以滴定突跃将变大()
多数无机配位剂不能用于滴定金属离子。
在EDTA配位滴定中金属离子指示剂的应用条件是()。
在EDTA配位滴定中金属离子指示剂的应用条件是()
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在配位滴定中,金属离子与EDTA初始浓度通常为0.01mol·L-1,则准确滴定金属离子的条件一般是()
在同一溶液中如果有两种以上金属离子只有通过控制溶液的酸度方法才能进行配位滴定。()
在同一溶液中如果有两种以上金属离子,只有通过控制溶液的酸度方法才能进行配位滴定()
在配位滴定中,消除干扰离子的掩蔽法有:沉淀掩蔽法、配位掩蔽法和氧化还原掩蔽法()
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