单选题

恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()

A. 高斯函数
B. 余误差函数
C. 指数函数
D. 线性函数

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单选题
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()
A.高斯函数 B.余误差函数 C.指数函数 D.线性函数
答案
主观题
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质,在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新的杂质补充,这种扩散方式称为:()
答案
单选题
钢带表面分布的凹凸印迹称压痕()
A.周期性 B.无周期性 C.半周期 D.全周期性
答案
主观题
什么是扩散效应?什么是自掺杂效应?这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化?
答案
主观题
偶然误差的分布特性,在数学上可用一个称之为()
答案
主观题
在半导体电子器件的制作中所使用的扩散方式主要有两种类型,即恒定表面源扩散和()。
答案
单选题
恒定表面浓度的条件下,在整个扩散期间,()保持恒定表面浓度。
A.源蒸气 B.杂质和惰性气体混合物 C.水蒸气和杂志混合物 D.杂质
答案
主观题
分布在胸膜、腹膜和心包膜表面的单层扁平上皮称:
答案
单选题
分布在胸膜、腹膜和心包膜表面的单层扁平上皮称()
A.内皮 B.间皮 C.变移上皮 D.复层上皮 E.单层柱状上皮
答案
主观题
中国大学MOOC: 硅恒定源扩散,在扩散温度硅的固溶度为Ns,在进行了40min扩散后,测得结深是1.5μm,若要获得2.0μm的结深,在原工艺基础上应再扩散多少分钟?硅表面杂质浓度是多少?
答案
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