可摘局部义齿上颌后堤区后缘应在

上颌全口义齿后堤区应在：（） 上颌游离端局部义齿基托后缘应位于（）。 上颌游离端局部义齿基托后缘应位于 上颌游离端局部义齿基托后缘应位于翼上颌切迹。 上颌义齿后堤区（密封带）应在 制作上颌后堤区，有助于全口义齿的 全口义齿上颌后堤区的最宽区域为 上颌全口义齿后缘的封闭区为 上颌全口义齿后缘的封闭区为 上颌可摘局部义齿恢复功能的部分是 前后颤动线之间可稍加压力，作为上颌义齿后缘的封闭区，成后堤区，宽约2～12mm，平均8．2mm。 前后颤动线之间可稍加压力，作为上颌义齿后缘的封闭区，成后堤区，宽约2～12mm，平均8．2mm（） 关于上颌全口义齿后堤区的描述，错误的是（）。 上颌全口义齿印模，后缘应：（） 上颌全口义齿的后缘应位于 上颌全口义齿的后缘应位于（） 上颌义齿后堤区位于（）。 上颌义齿后堤区应在酸雨是指降水的声值小于（） 上颌双侧远中后牙游离缺失，可摘局部义齿修复时，舌侧蜡基托远中后缘一般应在的位置是 可摘局部义齿开盒后，应遵循（）的原则打磨抛光义齿（）。