下面关于集中CVD方法描述正确的是（）
A. 等离子体增强化学气相淀积（PECVD）是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点
B. 低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少
C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能u2029与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,u2029所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中
D. LPCVD不能淀积二氧化硅薄膜
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下面关于集中CVD方法描述正确的是（）
A.等离子体增强化学气相淀积（PECVD）是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点 B.低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少 C.做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能u2029与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,u2029所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中 D.LPCVD不能淀积二氧化硅薄膜
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中国大学MOOC: 下面关于几种CVD方法的描述正确的是（）。
答案
关于脑室系统，下面描述正确是（ ）
A.包括左 B.包括左 C.包括侧脑室；三脑室 D.与蛛网膜下腔不相通 E.位于脑实质内
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下面关于意象艺术描述正确是（）
A.艺术家按照自我感觉到的样子来表现世界 B.艺术家的主观能动性在意象艺术中发挥了决定性作用 C.所谓“意象”，是与“实象”相对而言的，即不是艺术家客观描摹现实的再现形象 D.意象艺术是“意”中之象，是由艺术家的感觉、想象和表现意图所呈现
答案
下面关于创新的描述中正确是（）。
答案
下面关于敏捷模型描述不正确是（）
A.与传统型相比，敏捷模型属于自适应过程 B.可以应对需求的不断变化 C.Scrum模型、XP模型、DevOps模型等都属于敏捷模型 D.敏捷模型的预测型和迭代型混合模型
答案
下面关于洪秀全生平及其成就描述正确是()
A.出身农民家庭 B.太平天国起义运动的领袖 C.原名火秀 D.广东花县人
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下面关于洪秀全生平及其成就描述正确是（）。
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下面关于集线器（HuB）的描述，不正确是（）
A.是多口中继器 B.有源和智能集线器之分 C.工作在网络层 D.智能集线器支持多种网络协议
答案
关于CVD涂层，描述是不正确的（）
A.CVD表示化学气相沉积 B.CVD是在700～1050℃高温的环境下通过化学反应获得的 C.CVD涂层具有高耐磨性 D.CVD对高速钢有极强的粘附性
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