多选题

在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有()。

A. 溶液温度过高
B. 溶液被污染
C. 显影有余胶
D. 传递速度过快

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多选题
在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有()。
A.溶液温度过高 B.溶液被污染 C.显影有余胶 D.传递速度过快
答案
多选题
在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻不足的原因可能有()。
A.传送速度太快 B.p C.H值太低 D.蚀刻液温度不足 E.喷淋压力不足
答案
单选题
不适宜在碱性氯化铜蚀刻液中蚀刻的抗蚀层是()。
A.金 B.锡铅合金 C.油墨 D.镍
答案
单选题
碱性氯化铜蚀刻液一定可用于下列何种抗蚀层()。
A.锡 B.干膜 C.油墨 D.都不是
答案
判断题
酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定,容易控制。
答案
多选题
酸性氯化铜蚀刻若操作体系的温度太高,会使()。
A.盐酸挥发 B.抗蚀层破坏 C.溶液组分比例失调 D.无影响
答案
判断题
酸性氯化铜蚀刻液用于蚀刻单面板和多层板的内层。
答案
多选题
酸性氯化铜蚀刻体系中常用的氯化物的种类为()。
A.氯化钠 B.氯化氢 C.氯化钙 D.氯化镁
答案
单选题
碱性氯化铜的蚀刻液密度太低,会加大侧蚀量,这是因为()。
A.蚀刻液的密度太低,造成温度过低,反应速度过慢 B.蚀刻液的密度太低,溶液中的二价铜离子含量偏低 C.蚀刻液的密度太低,即溶液的p D.H值太低 E.蚀刻液的密度太低,溶液中的氯化铵含量太少
答案
单选题
酸性氯化铜蚀刻中,可通过增加哪种离子的含量来减少氯化亚铜沉淀的生成()。
A.二价铜离子 B.一价铜离子 C.氯离子 D.钠离子
答案
热门试题
酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。 碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。 蚀刻液中只需要含有氯化铜即可达到理想蚀刻要求。 碱性氯化铜蚀刻液中氯化铵浓度偏低时,蚀刻速率慢,溶液稳定性差。 在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中,由于氯气是强氧化剂,直接通氯气是再生的最好方法。是因为()。 在用酸碱性氯化铜蚀刻若形成氯化亚铜沉淀,有何不利因素。 在酸碱性氯化铜蚀刻液中都是含铜量越多越好。 在蚀刻过程中,添加某些添加剂可以降低侧蚀程度。 乙烯氧氯化法生产氯乙烯,氧氯化反应的催化剂活性组分是氯化铜。 乙烯氧氯化法生产氯乙烯,氧氯化反应的催化剂活性组分是氯化铜() 在印制电路板的蚀刻过程中为何要减少侧蚀。如何减少侧蚀。 所有金属抗蚀层都可适用碱性蚀刻液,大部分金属不可用酸性蚀刻液,金除外。 以碳棒为电极电解氯化铜水溶液时,阴极反应有() 蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有()。 以石墨为电极,电解氯化铜水溶液,阴极的产物是铜。 以石墨为电极,电解氯化铜水溶液,阴极的产物是铜() 直接抗人球蛋白试验阳性原因可能有 产后出现尿潴留的原因可能有 市场出现失灵现象的原因可能有(  )。 产品出现掉包的原因可能有()
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