例出典型的硅片湿法清洗顺序
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例出典型的硅片湿法清洗顺序。
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例出典型的硅片湿法清洗顺序
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下面哪个不是硅片的清洗方法（）
A.化学清洗法 B.超声清洗法 C.真空高温清洗法 D.清水清洗法
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以下选项中不是硅片清洗的作用的是？（）
A.在等离子边缘腐蚀中，如果有油污、水汽、灰尘和其他杂质存在，会影响器件的质量，清洗后质量大大提高 B.在硅片外延工艺中，杂质的存在会影响硅片的电阻率不稳定 C.在太阳能材料制备过程中，在硅表面涂一层具有良好性能的增反膜，有害的杂质离子进入二氧化硅层，会降低绝缘性能，清洗后绝缘性能会更好 D.硅片中杂质离子会影响P-N结的性能，引起P-N结的击穿电压降低和表面漏电，影响P-N结的性能
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在将清洗完的硅片放进扩散炉扩散时，需要将硅片先装入（），然后再装入扩散炉。
A.耐热陶瓷器皿 B.金属器皿 C.石英舟 D.玻璃器皿
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超出典型发展的区间范围才算是（）发展。
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研究者在典型调查中所研究的典型主要是突出典型、（）典型、全面典型三种类型。
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提出典型人物“特征”概念的理论家是（）
A.黑格尔 B.席勒 C.歌德 D.希尔特
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在清洗硅片时常用到真空高温处理法，不是其优点是（）
A.由于硅片处于真空状态，因而减少了空气中灰尘的沾污 B.硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加 C.硅片可能沾污的一些固体杂质在真空高温条件下，易发生分解而除去 D.对一些复杂的容器或器件也能清洗
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例举并描述硅片拣选测试中的三种典型电学测试。
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化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。
为什么说莫里哀《伪君子》是一出典型的性格喜剧？
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