单选题

金瓷基底冠进行氧化处理时,理想的氧化层应为多厚

A. 05~0.1μm
B. 1~0.2μm
C. 2~2μm
D. 5μm
E. 5~3μm

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单选题
金瓷基底冠进行氧化处理时,理想的氧化层应为多厚
A.05~0.1μm B.1~0.2μm C.2~2μm D.5μm E.5~3μm
答案
单选题
某技术员在进行金瓷修复体基底冠表面粗化及预氧化处理后,不慎用手触摸金属表面,使表面污染,最易导致金瓷修复体()
A.瓷结合不良 B.不透明瓷层出现裂纹 C.出现瓷气泡 D.金属氧化膜过厚 E.PFM冠变色
答案
单选题
某技术员在进行金-瓷修复体基底冠表面粗化及预氧化处理后,不慎用手触摸了金属表面,使表面污染,最易导致金-瓷修复体
A.出现瓷气泡 B.瓷结合不良 C.不透明瓷层出现裂纹 D.瓷表面裂纹 E.金属氧化膜过厚
答案
单选题
某技术员在操作过程中,由于疏忽,忘记对金合金烤瓷基底内冠的预氧化处理,完成的金瓷冠最易出现的问题是
A.瓷崩裂 B.瓷表面龟裂 C.瓷烧结合出现气泡 D.颜色异常 E.瓷与金属结合不良
答案
单选题
氧化处理,在基底表面生成一氧化层,其作用是
A.牙体缺损较大而无法作充填治疗 B.金属与烤瓷间有牢固结合 C.牙体过小无法取得足够的固位形及抗力形 D.机械结合 E.瓷层局部过厚
答案
单选题
烤瓷合金在预氧化处理过程中其表面形成一层氧化膜,该氧化膜与瓷产生(),是金-瓷结合力的主要组成部分
A.静摩擦力 B.范德华力 C.化学结合力 D.机械结合力 E.以上都正确
答案
单选题
金瓷基底冠桥进行氧化,是在除气的基础上再加热。至预定终点温度时在非真空状态下应继续维持
A.1~2分钟 B.3~5分钟 C.5~10分钟 D.10~12分钟 E.12~15分钟
答案
单选题
金瓷冠的基底冠金瓷衔接处的角度()
A.5° B.30° C.45° D.90° E.135°
答案
单选题
金瓷冠的基底冠金瓷衔接处的角度为
A.5° B.30° C.45° D.90° E.135°
答案
B型单选(医学类共用选项)
金瓷冠基底冠的金瓷衔接处的角度为
A.5° B.30° C.45° D.90° E.135°
答案
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