室温下卤素单质自F2至I2聚集状态由气态逐渐变为固态，是由于（）

已知ΦI2/I－＝0.535V ， ΦBr2/Br－＝1.087V，在标准状态下可判断： 一个物体在两个力F1、F2的作用下做匀速直线运动．现在把F1逐渐减小到零，F2保持不变，则在F1 减小的过程中 （　　） 根据电极电位数据，指出下列说法何者是正确的（）已知：标准电极电位E（F2/F-）=2.87VE（Cl2/Cl-）=1.36VE（Br2/Br-）=1.07VE（I2/I-）=0.54VE（Fe3+/Fe2+）=0.77V 在2Cu2+＋4I-=2CuI↓＋I2中，φθ（I2/I-）=0.54V，φθ（Cu2+/CuI）=0.86V，φθ（Cu2+/CuI）>φθ（I2/I-）则反应方向向（） 阅读下面的C语言程序，请给出正确的输出结果（ ）。#include#define N 10#define s（x）x*x#define f（x）（x*x）#define g（x）（（x）*（x））main（ ）{int i1,i2,i3,i4;i1=1000/s（N）;i2=1000/f（N）;i3=f（N+1）;i4=g（N+1）;printf（“i1=%d,i2=%d,i3=%d,i4=%d”,i1,i2,i3,i4）;} 在2Cu2+＋4I-=CuI↓＋I2中，Eθ（I2/2I-）=0.54V，Eθ（Cu2+/CuI）=0.86V，Eθ（Cu2+/CuI）>Eθ（I2/2I-）则反应方向向（）。 在2Cu2+＋4I-=CuI↓＋I2中，Eθ（I2/2I-）=0.54V，Eθ（Cu2+/CuI）=0.86V，Eθ（Cu2+/CuI）>Eθ（I2/2I-）则反应方向向（） F2+，F2，F2- 的键级顺序为 配制I2标准溶液时，将I2溶解在（）中 F2与口腔或口前部的空腔有关。当舌位()移时，前部的腔变()，F2的波长变()，频率变()。所以，前元音有高频的F2，后元音有低频的F2。 配置I2标准溶液时，是将I2溶解在中（） 若程序中定义了三个函数f1、f2和f3，并且函数f1调用f2、f2调用f3，那么，在程序运行时不出现异常的情况下，函数的返回方式为（） 。 物态指物质聚集是的固、液、气态（） 卷绕机后F1保险是（）A，F2保险是（）A。其中F2保险烧毁会出现（）（现象）。 图中电流I2=2A。() 阅读算法f2,并回答下列问题： 设队列Q=（1，3，5，2，4，6）。写出执行算法f2后的队列Q; Void f2(Queue *Q){ DataType e; if(!Queue Empty(Q)){ e=DeQueue(Q); f2(Q); EnQueue(Q,e); } } 配制I2 标准溶液时，通常是将I2 溶解在（ ） 若定义有变量float f1,f2 = 8.0F,变量f1，f2均被初始化为8（） 阅读算法f2，并回答下列问题：（1）设队列Q=（1，3，5，2，4，6）。写出执行算法f2后的队列Q；（2）简述算法f2的功能。voidf2（Queue*Q）{DataTypee；if（!QueueEmpty（Q））{e=DeQueue（Q）；f2（Q）；EnQueue（Q，e）；}} 一物体在相互垂直的两个共点力F1、F2作用下，运动过程中F1对物体做功3J，F2对物体做功4J，则F1、F2的合力对物体做功为()