主观题

()是指轴的公差带全部大于孔的公差带,亦即孔的上偏差小于轴的下偏差。

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基孔制:基本偏差为孔的公差带,与不同基本偏差的轴的公差带形成各种配合的制度() 基本偏差为f的轴的公差带与基准孔H的公差带形成 孔、轴公差带是由基本偏差与标准公差数值组成的。 孔轴公差带是由基本偏差与标准公差数组成的。 孔和轴的公差带是由标准公差与基本偏差组成的() 基孔制就是基本偏差为一定的轴公差带与不同基本偏差的孔公差带形成各种配合。 孔轴过渡配合中,孔的公差带与轴的公差带相互交叠。 孔与轴相配合,当孔公差带位于轴公差带之下则形成() 过渡配合相配合的孔、轴公差带的相对位置为孔的公差带与轴的公差带( )。 孔的公差带在轴之上为()配合,孔的公差带在轴之下为()配合,孔的公差带与轴的公差带相互交迭为()配合 配合的基孔制是指基本偏差为一定的孔公差带,与不同基本偏差的轴公差带形成各种配合的一种制度() 孔、轴公差带写成分数形式,分母为()公差带,分子为()公差带。 孔、轴公差带写成分数形式,分母为()公差带,分子为()公差带 间隙配合相配合的孔、轴公差带的相对位置为孔的公差带在轴的公差带( )。 在孔和轴配合的公差带图中,若轴的公差带位于孔的公差带上方,则形成配合 ()时,孔的公差带完全在轴的公差带之下 ( )为上偏差且为零的轴的公差带,与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度。 公差带表示在公差带图中,由代表上、下偏差的两条直线所限定的区域;孔的公差带用剖面线表示,轴的公差带用全黑表示() 配合公差等于: 孔和轴的上偏差之和|孔和轴的公差之和|孔和轴的公差之差|孔和轴的基本偏差之和 过渡配合时,孔的公差带与轴的公差带相交。
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