基托蜡型制作时，下列哪个区域应稍薄（）
A. 唇侧边缘
B. 颊侧边缘
C. 骨隆突区
D. 腭皱襞处
E. 上颌腭侧后缘
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基托蜡型制作时，下列哪个区域应稍薄（）
A.唇侧边缘 B.颊侧边缘 C.骨隆突区 D.腭皱襞处 E.上颌腭侧后缘
答案
基托蜡型制作时，下列区域应稍薄的是（）。
A.唇侧边缘 B.颊侧边缘 C.骨隆突区 D.腭皱襞处 E.上颌腭侧后缘
答案
基托蜡型制作时，下列各个区域应稍薄的是（）
A.唇侧边缘 B.颊侧边缘 C.骨隆突区 D.腭皱襞处 E.上颌腭侧后缘
答案
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答案
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答案
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答案
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答案
可摘局部义齿制作上颌基托时，基托伸展范围与下列关系不密切的是（）。
A.牙槽嵴的吸收程度 B.义齿支持形式 C.缺牙的多少 D.人工牙的种类 E.缺失部位
答案
制作上颌基托时，其基托伸展范围的大小与下列哪项内容关系不密切？（）
A.缺失区的部位 B.缺牙的多少 C.牙槽嵴的吸收程度 D.支持形式 E.人工牙的种类
答案
制作上颌基托时，其基托伸展范围的大小与下列内容关系不密切的是（）
A.缺失区的部位 B.缺牙的多少 C.牙槽嵴的吸收程度 D.支持形式 E.人工牙的种类
答案
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制作义齿基托通常采用（ ）。
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全口义齿基托需缓冲的区域是（）。
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