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在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则()。
多选题
在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则()。
A. 使薄膜的介电常数变大
B. 可能引入杂质
C. 可能使薄膜层间短路
D. 使薄膜介电常数变小
E. 可能使薄膜厚度增加
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在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则()。
A.使薄膜的介电常数变大 B.可能引入杂质 C.可能使薄膜层间短路 D.使薄膜介电常数变小 E.可能使薄膜厚度增加
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