判断题

硅质绝热板的主要化学成份是SiO2。

查看答案
该试题由用户882****95提供 查看答案人数:18348 如遇到问题请 联系客服
正确答案
该试题由用户882****95提供 查看答案人数:18349 如遇到问题请联系客服

相关试题

换一换
热门试题
硅灰的SiO2含量应大于()% 含SiO2在()以上的材料统称硅质耐火材料,硅砖以()为主要原料生产,其SiO2含量一般不低于(),主要矿物组成为磷石英和方石英 粘土质原料的主要化学成分是Al2O3,其次是SiO2和Fe2O3() 下面哪些说法是正确的()⑴ 热生长SiO2只能在Si衬底上生长 ⑵ CVD SiO2可以淀积在硅衬底上,也可以淀积在金属、陶瓷、及其它半导体材料上 ⑶ CVD SiO2,衬底硅不参加反应 ⑷ CVD SiO2,温度低 生石灰的主要化学成份是Ca(OH)2,熟石灰的主要化学成份是CaO。()   花岗石的化学成分中,SiO2的含量常为()以上,为酸性石材。 绝热板从材质上分为硅质、和其他材质的 在PH值时水中硅盐大部都是SiO2(H2SiO3)() 用硅钼蓝分光光度法测定SiO2,适用于含量的SiO2的测定() 锰硅合金生产中,通常锰硅合金炉渣成分SiO2为() 玻璃的化学成分主要是(SiO2)、CaO、Na2O、K2O玻璃容器不能长时间存放碱液() 镁质绝热板的主要成分是() 硅还原量与和SiO2的活度成正比 中国大学MOOC: 下面关于二氧化硅薄膜制备的说法哪项是正确的()。 ⑴ 热生长SiO2只能在Si衬底上生长 ⑵ CVD SiO2可以淀积在硅衬底上,也可以淀积在金属、陶瓷、及其它半导体材料上 ⑶ CVD SiO2,衬底硅不参加反应 ⑷ CVD SiO2,温度低 生石灰的主要化学是成份是Ca(0H)2,熟石灰的主要化学成份是CaO。 生石灰的主要化学是成份是Ca(0H)2,熟石灰的主要化学成份是CaO。 冶炼硅铁时对硅石中SiO2的含量要求是() 冶炼硅铁时对硅石中SiO2的含量要求是() 冶炼锰硅合金对锰矿中SiO2的含量要求是() 中国大学MOOC: 架状结构硅酸盐的硅氧结构单元化学式为SiO2。
购买搜题卡 会员须知 | 联系客服
会员须知 | 联系客服
关注公众号,回复验证码
享30次免费查看答案
微信扫码关注 立即领取
恭喜获得奖励,快去免费查看答案吧~
去查看答案
全站题库适用,可用于E考试网网站及系列App

    只用于搜题看答案,不支持试卷、题库练习 ,下载APP还可体验拍照搜题和语音搜索

    支付方式

     

     

     
    首次登录享
    免费查看答案20
    微信扫码登录 账号登录 短信登录
    使用微信扫一扫登录
    登录成功
    首次登录已为您完成账号注册,
    可在【个人中心】修改密码或在登录时选择忘记密码
    账号登录默认密码:手机号后六位