单选题

初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是()

A. 不必处理
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 去腭杆,让患者戴走
E. 取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

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单选题
初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是()
A.不必处理 B.腭杆组织面加自凝树脂重衬 C.腭杆组织面缓冲 D.去腭杆,让患者戴走 E.取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
答案
单选题
初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
A.不必处理 B.取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆 C.腭杆组织面加白凝树脂重衬 D.去腭杆,让患者戴走 E.腭杆组织面缓冲
答案
单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是
A.不做处理,让患者将义齿戴走 B.腭杆组织面加自凝树脂重衬 C.腭杆组织面缓冲 D.取下腭杆 E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
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单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是
A.不做处理,让患者将义齿戴走 B.腭杆组织面加自凝树脂重衬 C.腭杆组织面缓冲 D.取下腭杆 E..取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
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多选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是
A.不做处理,让患者将义齿戴走 B.腭杆组织面加自凝树脂重衬 C.腭杆组织面缓冲 D.取下腭杆 E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
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单选题
初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm,处理方法是对化妆品原料的要求中,规定禁用物质359种。其中包括()
A.农药、放射性物质 B.防腐剂、激素 C.抗生素、紫外线吸收剂 D.精神药物、防腐剂 E.麻醉药、紫外线吸收剂
答案
单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是
A.取下腭杆 B.腭杆组织面做缓冲 C.腭杆组织面加自凝树脂重衬 D.不做任何处理 E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
答案
单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
A.不做处理 B.腭杆组织面加自凝树脂重衬 C.基托组织面缓冲 D.取下腭杆,用自凝树脂修补缺口 E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
答案
单选题
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()
A.不做处理,让患者把义齿戴走 B.腭杆组织面加自凝树脂重衬 C.腭杆组织面缓冲 D.取下腭杆 E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
答案
单选题
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆 D.不做处理,让患者把义齿戴走 E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
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