23触媒硫化时系统压力控制在（）

23#触媒还原、硫化时系统压力控制在0.3Mpa，加热速率不得超过50°C/h，该温度的控制通过调节开工加热炉的N2温度来进行。 23#触媒如何硫化？ 合成塔触媒钝化时，维持系统压力为0.5Mpa（） 23＃触媒硫化为什么要用热氮气？ 23＃触媒硫化为什么要用热氮气 23＃触媒硫化所采用的还原剂是二硫化碳。 23＃触媒硫化所采用的还原剂是二硫化碳（） 23触媒硫化初步为变换炉升温的介质是（） 23＃触媒硫化所采用的还原剂是（） 硫化过程中必须严格控制的主要条件是：（）、硫化压力和硫化时间。 变换触媒硫化升温阶段，触媒层温度控制在150℃—220℃之间 变换触媒硫化升温阶段，触媒层温度控制在150℃—220℃之间（） 催化剂硫化时将系统压力以每小时0.3～0.5MPa的速率，提至硫化曲线要求的操作压力 催化剂硫化时将系统压力以每小时3～5MPa的速率，提至硫化曲线要求的操作压力 影响硫化胶质量的因素有：硫化压力、（）和硫化时间，又称硫化的三要素。 23＃硫化时，床层温度为（）时才能通入粗煤气。 23＃硫化时，床层温度为（）时才能通入粗煤气 23＃变换炉触媒升温时升温速率控制在（）。 23＃变换炉触媒升温时升温速率控制在（） 触媒层温度突然下降，系统压力（）