利用配位反应降低干扰离子的浓度的方法称为（）

配位剂EDTA能与多种金属离子发生配位反应，其配位比是1：1（） EDTA与金属离子配位反应的特点（） 在配位滴定中，消除干扰离子常用的掩蔽法有（） 配位滴定法是利用形成稳定配合物的配位反应来进行滴定的分析方法。() 为了提高测定的选择性，避免干扰离子的影响，可以在试样中预先加入来降低干扰离子的浓度（） 配位滴定法测定金属离子含量时，应注意酸度、干扰离子的影响（） 被测离子M与干扰离子N浓度相同时，能否利用控制溶液酸度的方法进行选择性滴定，主要取决于（） [药物分析]EDTA与金属离子配位反应的特点 EDTA能与金属离子直接发生配位反应的时 [药物分析]EDTA与金属离子配位反应的特点 在配位反应中，对金属离子M的副反应主要是（） 在配位滴定中，消除干扰离子的掩蔽法有：沉淀掩蔽法、配位掩蔽法和氧化还原掩蔽法（） 金属离子M与配位剂L形成逐级络合物，溶液中各种存在型体的分布系数与配位剂的平衡浓度；与金属离子的总浓度。（） 在配位滴定中，要准确滴定M离子而N离子不干扰须满足lgKMY-lgKNY≥5（） 氧化还原掩蔽法是利用氧化还原反应，改变干扰离子价态，达到消除干扰的目的（） 在配位滴定中，要准确滴定M离子而N离子不干扰须满足lgK（MY）-lgK（NY）≥5（） 与中心离子配位的配位体数目，就是中心离子的配位数。() 电镀液中，常加配位剂来控制被镀离子的浓度 配位滴定中常用的消除干扰的方法包括（） 氧化还原反应和中和、沉淀、配位等反应一样，是基于离子间的反应（）