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铱192的半衰期为75天,用该新源透照工件最佳的曝光时间为10分钟,225天后重照同样的工件(),则需曝光()分钟
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铱192的半衰期为75天,用该新源透照工件最佳的曝光时间为10分钟,225天后重照同样的工件(),则需曝光()分钟
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铱192的半衰期为75天,用该新源透照工件最佳的曝光时间为10分钟,225天后重照同样的工件(),则需曝光()分钟。
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铱192的半衰期为75天,用该新源透照工件最佳的曝光时间为10分钟,225天后重照同样的工件(),则需曝光()分钟
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用铱192透照某工件,曝光10分钟可获得理想的底片,150天后,以相同条件用该源透照同一工件时,要获得相同质量的底片需曝光()分钟
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用铱192透照某工件,曝光10分钟可获得理想的底片,150天后,以相同条件用该源透照同一工件时,要获得相同质量的底片需曝光()分钟
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用100居里的铱192γ射线源透照某工件,焦距1米,曝光时间5分钟,能得到合适的底片黑度。225天后,用该源透照相同工件,焦距变为2米,为得到相同黑度,曝光时间应为()分钟。
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