以三联吡啶钌作为发光底物的化学发光免疫分析类型是（ ）。
A. 化学发光免疫测定
B. 化学发光酶免疫测定
C. 微粒子化学发光免疫测定
D. 电化学发光免疫测定
E. 荧光酶免疫分析
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以三联吡啶钌作为发光底物的化学发光免疫分析类型是（ ）。
A.化学发光免疫测定 B.化学发光酶免疫测定 C.微粒子化学发光免疫测定 D.电化学发光免疫测定 E.荧光酶免疫分析
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以三联吡啶钌作为发光底物的化学发光免疫分析类型是（ ）。
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电化学发光免疫分析（ECLIA）三联吡啶钌NHS酯产生的位置是（）
A.在气相反应中进行 B.在液相反应中进行 C.在固相反应中进行 D.在电极表面进行 E.以上均不是
答案
电化学发光免疫分析(ECLIA)三联吡啶钌NHS酯产生的位置是
A.在气相反应中进行 B.在液相反应中进行 C.在固相反应中进行 D.在电极表面进行 E.在顺磁性微粒表面进行
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答案
HRP标记的化学发光免疫分析的发光底物为
A.AMPPD B.4-MUP C.鲁米诺 D.吖啶酯
答案
HRP标记的化学发光免疫分析的发光底物为（）
A.三联吡啶钌 B.AMPPD C.4-MUP D.鲁米诺 E.吖啶酯
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