2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。
2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。
若都灵公司于2018年7月5日首次投入商业利用后,迟迟不予申请集成电路布图设计保护,直至2021年7月5日方才向国家知识产权局提出申请,关于其是否符合被予以受理、审查条件的说法,正确的是( )。
A. 不符合,因为已投入商业利用的集成电路布图设计一律不予保护登记
B. 符合,因为都灵公司受保护的集成电路布图设计可以实现某一电子功能
C. 不符合,因为布图设计自首次商业利用之日起2年内,未向提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记
D. 符合,因为都灵公司受保护的集成电路布图设计具备独创性
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