X射线光刻技术与传统光刻技术相比，是通过（）的手段来提高分辨率的。

提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。 光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？ 中国大学MOOC: 光刻技术中的紫外光源主要包括（）。 光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（ ）的情况。 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪三种（） 传统X射线技术成像采用的是（） 微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。 何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？ 数字投影微光刻技术的打印方式是由点到线再到面，层层累加 光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。 什么是纳米光刻 什么是纳米光刻 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？ 试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。 试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案 与传统的手工测量手段相比，GPS技术具有的特点是（） 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？ 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？ 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？ （名词解析） 光刻