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如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。
判断题
如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。
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判断题
如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。
A.对 B.错
答案
判断题
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶()
答案
单选题
在深紫外曝光中,需要使用()光刻胶。
A.DQN B.CA C.ARC D.PMMA
答案
主观题
典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少?
答案
单选题
用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶()。
A.ARC B.HMDS C.正胶 D.负胶
答案
单选题
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。
A.化学增强 B.化学减弱 C.厚度增加 D.厚度减少
答案
多选题
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。
A.CA光刻胶对深紫外光吸收小 B.CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化 C.CA光刻胶在显影液中的可溶性强 D.有较高的光敏度 E.有较高的对比度
答案
单选题
在CMOS工艺中,通常采用对光刻胶曝光显影来实现所设计结构的图案制备()
A.正确 B.错误
答案
主观题
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?
答案
判断题
利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中,掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。
答案
热门试题
利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中,掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉()
金属铜可溶于硫酸溶液中()
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
可溶于碳酸钠水溶液的是()
可溶于碳酸钠水溶液的是( )。
可溶于碳酸钠水溶液的有()
可溶于碳酸钠水溶液的是()
可溶于碳酸钠水溶液的是()
既可溶于水,又可溶于氯仿的是()
下列物质中,可溶于水形成溶液的是()。
除()外,均可溶于碳酸钠水溶液
可溶于碳酸氢钠溶液的是()。
纯碳酸氢钠可溶于水,其水溶液因水解而呈()
[中药化学]既可溶于水,又可溶于氯仿的是
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶?
既可溶于水,又可溶于三氯甲烷的是()。
既可溶于酸水也可溶于碱水的生物碱是( )。
光刻胶的光学稳定通过()来完成的。
香豆素可溶于热稀碱溶液中是由于()。
[中药化学]除()外,均可溶于碳酸钠水溶液。
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