多选题

配位滴定中常用的消除干扰的方法包括()

A. 控制酸度
B. 掩蔽与解蔽
C. 氧化还原
D. 离子交换

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多选题
配位滴定中常用的消除干扰的方法包括()
A.控制酸度 B.掩蔽与解蔽 C.氧化还原 D.离子交换
答案
多选题
EDTA配位滴定法,消除其它金属离子干扰常用的方法有()。
A.加掩蔽剂 B.使形成沉淀 C.改变金属离子价态 D.萃取分离
答案
主观题
EDTA配位滴定法,消除其它金属离子干扰常用的方法有()
答案
多选题
EDTA配位滴定法,消除其他金属高子干扰常用的方法有()
A.加掩蔽剂 B.使形成沉淀 C.改变金属离子价态 D.翠取分离
答案
多选题
配位滴定中消除干扰离子的方法有()
A.配位掩蔽法 B.沉淀掩蔽法 C.氧化还原掩蔽法 D.化学分离
答案
多选题
在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()。
A.掩蔽法 B.预先分离法 C.改用其它滴定剂法 D.控制溶液酸度法
答案
多选题
在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()
A.掩蔽法 B.预先分离法 C.改用其他滴定剂法 D.控制溶液酸度法
答案
单选题
在配位滴定中,消除干扰离子常用的掩蔽法有()
A.沉淀掩蔽法 B.配位掩蔽法 C.氧化还原掩蔽法 D.以上都是
答案
单选题
配位滴定法中常用的滴定剂是配位滴定法中常用的滴定剂是()
A.氨基二乙酸二钠 B.EDTA C.乙二胺四醋酸二钠 D.二乙酸四乙胺二钠 E.DETA
答案
多选题
配位滴定法中消除干扰离子的方法有()。
A.配位掩蔽法 B.沉淀掩蔽法 C.氧化还原掩蔽法 D.化学分离
答案
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