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备Ⅰ类洞,关于龋的原发部位的全面描述是
单选题
备Ⅰ类洞,关于龋的原发部位的全面描述是
A. 牙的咬合面
B. 所有牙齿的发育窝沟
C. 后牙窝沟
D. 上前牙腭侧点隙
E. 上前牙腭侧窝
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单选题
备Ⅰ类洞,关于龋的原发部位全面描述是()。
A.牙的咬合面 B.所有牙齿的发育窝沟 C.后牙窝沟 D.上前牙腭侧点隙 E.上前牙腭侧窝
答案
单选题
备Ⅰ类洞,关于龋的原发部位的全面描述是
A.牙的咬合面 B.所有牙齿的发育窝沟 C.后牙窝沟 D.上前牙腭侧点隙 E.上前牙腭侧窝
答案
单选题
关于胃的排空的叙述,不正确的是备I类洞,关于龋的原发部位全面描述是()
A.牙的咬合面 B.所有牙齿的发育窝沟 C.后牙窝沟 D.上前牙腭侧点隙 E.上前牙腭侧窝
答案
单选题
关于龋病Ⅰ类洞的原发部位描述是()
A.牙的咬合面 B.所有牙齿的发育窝沟 C.后牙窝沟 D.上前牙腭侧点隙 E.上前牙腭侧窝
答案
单选题
关于龋病Ⅰ类洞的原发部位描述正确的是
A.牙的咬合面 B.所有牙齿的发育窝沟 C.后牙窝沟 D.上前牙腭侧点隙 E.上前牙腭侧窝
答案
单选题
深龋备洞无需做到()
A.间断 B.尽量保留健康牙体组织 C.底平壁直 D.洞缘线圆钝 E.去尽腐质
答案
单选题
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答案
单选题
深龋备洞无需做到
A.间断、慢速磨除 B.尽量保留健康牙体组织 C.底平壁直 D.洞缘线圆钝 E.去尽腐质
答案
单选题
深龋备洞近髓时选用()
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答案
单选题
深龋备洞近髓时选用
A.氢氧化钙制剂 B.复合树脂 C.磷酸锌水门汀 D.玻璃离子水门汀 E.氧化锌丁香油糊剂 F.氧化锌丁香油糊剂
答案
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