制备煤岩分析用的煤光片时，在细抛光煤光片时有以下方法（）
A. 煤光片在抛光盘的90°位线附近作左右摆动，同时不断地旋转光片，以使煤砖表面抛光均匀，并无方向性划道。
B. 煤光片在抛光盘的90°位线附近作左右摆动，以使煤砖表面抛光均匀。
C. 煤光片与抛光盘作反向旋转（煤砖的转速为80～100r/min）；
D. 煤光片与抛光盘作反向旋转（煤砖的转速为20～30r/min）
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制备煤岩分析用的煤光片时，在细抛光煤光片时有以下方法（）
A.煤光片在抛光盘的90°位线附近作左右摆动，同时不断地旋转光片，以使煤砖表面抛光均匀，并无方向性划道。 B.煤光片在抛光盘的90°位线附近作左右摆动，以使煤砖表面抛光均匀。 C.煤光片与抛光盘作反向旋转（煤砖的转速为80～100r/min）； D.煤光片与抛光盘作反向旋转（煤砖的转速为20～30r/min）
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