单选题

在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。

A. 刻蚀
B. 氧化
C. 淀积
D. 光刻

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单选题
在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。
A.刻蚀 B.氧化 C.淀积 D.光刻
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单选题
集成电路按照所用晶体管结构、电路和工艺的不同,主要分为双极型集成电路、(b)集成电路等()
A.非金属一氧化物一半导体(SSl) B.金属一氧化物一半导体(MOS) C.金属一氧化物一超导体(MLST) D.金属一氧化物一双极体(LIS)
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多选题
扩散工艺在现在集成电路工艺中仍然是是一项重要的集成电路工艺,现在主要被用来制作()。
A.埋层 B.外延 C.PN结 D.扩散电阻 E.隔离区
答案
主观题
描述你对集成电路工艺的认识。
答案
多选题
集成电路按照制造工艺可分为()。
A.半导体集成电路 B.薄膜集成电路 C.数字集成电路 D.厚膜集成电路
答案
多选题
按照集成电路的制造工艺分类,可以分为()
A.半导体集成电路 B.薄膜集成电路 C.厚膜集路 D.混合集成电路
答案
主观题
例举高k介质和低k介质在集成电路工艺中的作用。
答案
主观题
列举几种集成电路典型工艺,工艺上常提到0.25,0.18指的是什么?
答案
单选题
根据集成电路制造工艺,最容易制作的元件是()。
A.电感 B.变压器 C.大电容 D.交流电阻
答案
单选题
集成电路是微电子技术的核心,它是以先进的工艺和具体技术为基础的高科技,没有扩散工艺、平面工艺等的技术突破,集成电路是不可能成功的,第一块集成电路诞生于哪一年()
A.1945年 B.1956年 C.1958年 D.1960年
答案
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