硅砖是含（ ? ?）以上SiO2的硅质制品。

焦炉用的硅砖是指SiO2含量≥（） 硅质绝热板的主要化学成份是SiO2。 中包硅质绝热板的主要成分是SiO2（） 硅灰的SiO2含量应大于（）% 硅砖中SiO2含量愈高，其荷重软化点愈高（） 下面哪些说法是正确的（）⑴ 热生长SiO2只能在Si衬底上生长 ⑵ CVD SiO2可以淀积在硅衬底上，也可以淀积在金属、陶瓷、及其它半导体材料上 ⑶ CVD SiO2，衬底硅不参加反应 ⑷ CVD SiO2，温度低 1500℃以上硅的还原顺序为SiO2→SiO→Si，到达风口时[Si]含量达到最大值（） 在PH值时水中硅盐大部都是SiO2（H2SiO3）（） 用硅钼蓝分光光度法测定SiO2，适用于含量的SiO2的测定（） 锰硅合金生产中，通常锰硅合金炉渣成分SiO2为（） 锰硅合金生产中要提高合金的含硅量，需要有合适的炉渣碱度。当炉渣的碱度（CaO/SiO2）在（）之间，合金含硅量高 锰硅合金生产中要提高合金的含硅量，需要有合适的炉渣碱度。当炉渣的碱度（CaO/SiO2）在（）之间，合金含硅量高 硅还原量与和SiO2的活度成正比 中国大学MOOC: 下面关于二氧化硅薄膜制备的说法哪项是正确的（）。 ⑴ 热生长SiO2只能在Si衬底上生长 ⑵ CVD SiO2可以淀积在硅衬底上，也可以淀积在金属、陶瓷、及其它半导体材料上 ⑶ CVD SiO2，衬底硅不参加反应 ⑷ CVD SiO2，温度低 一般要求硅石含SiO2为（） 冶炼硅铁时对硅石中SiO2的含量要求是（） 冶炼锰硅合金对锰矿中SiO2的含量要求是（） 冶炼硅铁时对硅石中SiO2的含量要求是（） 岩石SiO2的含量为SiO2＜52%是碱性石料 根据高炉内硅还原的机理，降低生铁含硅的途径是：首先是降低软熔带位置、缩小熔滴带高度；其次降低风口前燃烧温度，直接减少SiO的发生量；三是应减少入炉的SiO2量，降低炉渣中SiO2的活度。