采用基轴制，用于相对运动的各种间隙配合时孔的基本偏差应在（）之间选择。

基轴制：基本偏差为H的轴的公差带与同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的制度（） 有相对运动的配合应选用间隙配合，无相对运动的配合均选过盈配合 在基轴制中，孔的偏差在P～ZC间基本为（）配合。 有相对运动的配合应选用间隙配合，无相对运动的配合均选用过盈配合。 有相对运动的配合应选用间隙配合，无相对运动的配合均选用过盈配合。() 在选择零件间的配合时，有相对运动的，应选择间隙配合，反之就选过盈配合 在选择零件间的配合时，有相对运动的，应选择间隙配合，反之就选过盈配合（） 基轴制过渡配合的孔，其下偏差必小于零；() 基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度。 基轴制是指基本偏差一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度。 基本偏差为一定的孔的公差带，与不同基本偏差的轴的公差带构成各种配合的一种制度称为基轴制（） 基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度（） (判断题) 有相对运动的配合应选用间隙配合,无相对运动的配合均选用过盈配合。( )(本题1.0分) 在装配图中，当采用基孔制时，基准孔的基本偏差为H，基本偏差（下偏差）为零，轴的基本偏差在（）之间为间隙配合。 所说的基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差形成各种配合的一种制度。 若分子中孔的基本偏差代号为“Ｈ”，表示该配合为基孔制；若分母中轴的基本偏差代号为“h”，表示该配合为基轴制。当轴与孔的基本偏差同为h（H）时，根据基孔制优先的原则（） 基轴制是基本偏差为一定的孔的公差带与不同基本偏差的轴的公差带形成各种性质配合的一种制度（） 基轴制其主要特征是轴的基本偏差一定，不同的配合由改变孔的基本偏差得到。 工作时有相对运动的孔和轴应选（）配合。 滚动轴承的配合外圈采用基孔制，内圈采用基轴制（）