单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物。

氟化氢铵 氟化氢钠 单晶硅一般采用钢化玻璃以及防水树脂进行封装，因此其坚固耐用，使用寿命最高可达25年（） 中国大学MOOC: 含硅薄膜的干法刻蚀工作气体主要是（）。 氯气、光气、氟化氢 （）燃烧产生氟化氢 氟化氢主要产生与手工电弧焊。 {高级工}单晶硅一般采用钢化玻璃以及防水树脂进行封装，因此其坚固耐用，使用寿命最高可达年（） 单晶硅与多晶硅的根本区别是（） 单晶硅太阳电池效率可达（）。 单晶硅太阳电池效率可达( )。 在用氟化氢时，应 干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么？ 干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么 中国大学MOOC: 当前，单晶硅的制备中85%左右都是采用（）。 吸入高浓度的氟化氢及氟化氢气体或蒸汽，可立即产生（）的刺激症状 晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的（）使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。 滤毒层一般采用触媒剂及浸渍活性炭制造；滤烟层一般采用超细纤维材料制造。二者结合能够有效地防止（）、丙烯醛、氟化氢、氧化氮、溴化氢、二氧化硫等火场中常见毒气对人体的伤害。 下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者（）。 氟化氢主要产生于（）焊接过程中