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在清洗硅片时常用到真空高温处理法,不是其优点是()
单选题
在清洗硅片时常用到真空高温处理法,不是其优点是()
A. 由于硅片处于真空状态,因而减少了空气中灰尘的沾污
B. 硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加
C. 硅片可能沾污的一些固体杂质在真空高温条件下,易发生分解而除去
D. 对一些复杂的容器或器件也能清洗
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单选题
在清洗硅片时常用到真空高温处理法,不是其优点是()
A.由于硅片处于真空状态,因而减少了空气中灰尘的沾污 B.硅片表面可能吸附的一些气体和溶剂分子的挥发性增加 C.硅片可能沾污的一些固体杂质在真空高温条件下,易发生分解而除去 D.对一些复杂的容器或器件也能清洗
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事件处理法的优点包括( )。
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