合成触媒升温还原控制原则为三高原则，即高温出水、高氢还原、开车高负荷生产期（）
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合成触媒升温还原控制原则为三高原则，即高温出水、高氢还原、开车高负荷生产期（）
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合成触媒升温还原控制原则为三低原则，即低温出水、低氢还原、开车低负荷生产期（）
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触媒升温还原时，“三不”指提氢与提温不同时进行，水分不带入塔内，高温出水时间不能太长（）
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合成塔触媒还原过程“三”原则是（）
A.三低：低温出水、低点还原、还原后有一个低负荷生产期 B.三稳：提温稳、补H2稳、出水稳； C.三不准：不准提H2提温同时进行、不准水分带入塔内、不准长时间高温出水； D.三控制：控制补氢速度、控制CO2浓度、控制好小时出水量
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触媒升温还原时，“三低”指低温出水，低温还原，低负荷生产期（）
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催化剂还原的“三低”原则：低温出水，低氢还原，还原后低负荷生产（）
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合成催化剂升温还原时，严格控制升温速率（）出水量（），平面（）温差（）
A.严格控制升温速率小于等于25℃/h B.出水量20—40公斤/小时 C.平面（同端面）温差小于5℃ D.提H2提温同时进行
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催化剂升温还原过程中的三高为（）、（）、（），两低为（）、（）。
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催化剂升温还原过程中的三高为（）、（）、（），两低为（）、（）
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育苗温度管理的“三高、三低”原则
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氨合成升温还原时初期升温速率控制在（）左右。
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变换触媒硫化升温阶段，触媒层温度控制在150℃—220℃之间
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