光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）

重氮感光胶配制好后，能存放多久？ 中国大学MOOC: 光刻工艺中的分辨率是指能精确转移到晶片表面抗蚀剂上图案的最小尺寸。 利用半导体的独特性能，可以制成半导体（）、（）、（）与（）。 XLPE绝缘电缆能抑制树枝生长，因为半导体屏蔽层中加入抗腐蚀物质（） 利用半导体（）特性可实现整流 扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。 感光特性参数，不包括 属于胶片感光特性的参数是 属于胶片感光特性的参数是 光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（ ）的情况。 感光胶分为正性胶和负性胶，简述它们是如何定义。 感光胶分为正性胶和负性胶，简述它们是如何定义 配胶时，如何正确使用感光粉？ 涂布感光胶是快速度好，还是慢速好？ 胶片感光特性曲线不能反映的是 线棒采用半导体胶的槽衬工艺下线有何工艺特点？ 半导体稳压性质是利用下列什么特性实现的（）。 能不能用毛刷刷涂感光胶？ X线摄影力求利用的是（） 感光不足部分是（） 感光过度部分呈现（） 潜影溴化的结果呈现部分（） 胶片特性曲线的组成部分（） 中国大学MOOC: 在光刻工艺中，前烘的主要目的是（）。