光刻和刻蚀的目的是什么？
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光刻和刻蚀的目的是什么？
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微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。
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干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么？
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光刻的主要工序包括：清洗、涂胶、__（）___、__（）___、___（）___、刻蚀、脱模等。
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什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？
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解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
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试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。
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由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。
A.刻蚀速率 B.选择性 C.各向同性 D.各向异性
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