硅铁冶炼中钢屑作为调节剂，同时也利于SiO2还原，这是为什么？

冶炼硅铁时，因含铁量不同，反应放出的热量也不同，因而不同含硅量的硅铁，其开始还原温度也不同，冶炼75%硅铁时的开始还原温度是（） 冶炼硅铁时，因含铁量不同，反应放出的热量也不同，因而不同含硅量的硅铁，其开始还原温度也不同，冶炼45%硅铁时的开始还原温度是（） 1500℃以上硅的还原顺序为SiO2→SiO→Si，到达风口时[Si]含量达到最大值（） 全天生产75%硅铁50吨，消耗95吨硅石（SiO2=98%），硅微粉回收量10吨、SiO2=95%，炉渣量为铁量的3%，炉渣中SiO2＝30%，计算Si的回收率 下面哪些说法是正确的（）⑴ 热生长SiO2只能在Si衬底上生长 ⑵ CVD SiO2可以淀积在硅衬底上，也可以淀积在金属、陶瓷、及其它半导体材料上 ⑶ CVD SiO2，衬底硅不参加反应 ⑷ CVD SiO2，温度低 硅在大于1500℃的高炉内的还原顺序是按SiO2→（）→Si逐级进行的。 硅在大于1500℃的高炉内的还原顺序是按SiO2→（）→Si逐级进行的 硅灰的SiO2含量应大于（）% 硅铁冶炼对钢屑有哪些要求？ 高炉冶炼常用的熔剂硅石（SiO2）属于（）。 SiO2还原Si的开始温度为（） 无生产硅铁用碳质还原剂，在矿热炉中冶炼，采用（）法。 在PH值时水中硅盐大部都是SiO2（H2SiO3）（） 硅砖是含（ ? ?）以上SiO2的硅质制品。 用硅钼蓝分光光度法测定SiO2，适用于含量的SiO2的测定（） 铁系合成氨催化剂中所添加的SiO2的作用？ 中国大学MOOC: 下面关于二氧化硅薄膜制备的说法哪项是正确的（）。 ⑴ 热生长SiO2只能在Si衬底上生长 ⑵ CVD SiO2可以淀积在硅衬底上，也可以淀积在金属、陶瓷、及其它半导体材料上 ⑶ CVD SiO2，衬底硅不参加反应 ⑷ CVD SiO2，温度低 锰硅合金生产中，通常锰硅合金炉渣成分SiO2为（） 硅铁冶炼的基本反应，是利用铁质还原剂中的铁将硅石中二氧化硅中的硅还原出来的反应。 硅铁冶炼的基本反应，是利用铁质还原剂中的铁将硅石中二氧化硅中的硅还原出来的反应（）