主观题

利用外延生长技术在衬底上形成所需的外延层后,还要经过什么工艺,才能形成一颗颗独立的LED芯片?

查看答案
该试题由用户980****89提供 查看答案人数:8623 如遇到问题请 联系客服
正确答案
该试题由用户980****89提供 查看答案人数:8624 如遇到问题请联系客服

相关试题

换一换
热门试题
硅外延生长工艺包括()。 划分后各子项外延之和大于母项外延,就会犯()的逻辑错误。划分后各子项外延之和小于母项外延,就会犯()的逻辑错误。 外延生长工艺流程是()。①硅片清洁处理 ②氯化氢气相抛光 ③系统的清洁处理 ④降温取片 ⑤外延生长 影响外延薄膜的生长速度的因素有哪些? 中国大学MOOC: 外延生长工艺流程是()。①硅片清洁处理 ②氯化氢气相抛光 ③系统的清洁处理 ④降温取片 ⑤外延生长 以下不为影响MOCVD设备形成外延层的晶相、成长速率的因素为() 简述教育技术的内涵和外延 异地高考的外延小于高考移民的外延。 高考移民的外延大于异地高考的外延。 高考移民的外延大于异地高考的外延() 什么是扩散效应?什么是自掺杂效应?这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化? 简述外延薄膜的生长过程,其最显著的特征是什么? 异地高考的外延要比高考移民的外延小。 “多出子项”指的是子项的外延之和母项的外延 如果A概念的部分外延与B概念的全部外延重合,则A与B的外延间可能是(). “概念的内涵”与“概念的外延”之间的外延关系是( ) 外延结晶 反对关系是指同一属概念下两个在外延上相互排斥,而其外延之和小于属概念外延的概念之间的关系。矛盾关系是指同一属概念之下的两个在外延上互相排斥,而其外延之和等于其属概念全部外延的概念之间的关系。根据上述定义,下列属于反对关系的是()。 划分子项的外延之和必须等于划分母项的外延() “青年”和“大学生”在外延上是()关系。
购买搜题卡 会员须知 | 联系客服
会员须知 | 联系客服
关注公众号,回复验证码
享30次免费查看答案
微信扫码关注 立即领取
恭喜获得奖励,快去免费查看答案吧~
去查看答案
全站题库适用,可用于E考试网网站及系列App

    只用于搜题看答案,不支持试卷、题库练习 ,下载APP还可体验拍照搜题和语音搜索

    支付方式

     

     

     
    首次登录享
    免费查看答案20
    微信扫码登录 账号登录 短信登录
    使用微信扫一扫登录
    登录成功
    首次登录已为您完成账号注册,
    可在【个人中心】修改密码或在登录时选择忘记密码
    账号登录默认密码:手机号后六位