解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？

解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？ 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。 通过负光刻胶定义的图形与所需要制备的图形相反。 用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。 什么是纳米光刻 什么是纳米光刻 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？ 正外部性和负外部性 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？ 光刻和刻蚀的目的是什么？ 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。 有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。 光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。 关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶（） 光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。 关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。 光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。 光刻技术